特許
J-GLOBAL ID：200903012969677800
高反応有機化合物で構成される廃原料の水素転化法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐田 守雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-308980
公開番号（公開出願番号）：特開平5-137961
出願日： 1991年11月25日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】 本発明はポリマー化合物を形成する化合物を含む原料よりポリマー形成を防止し、収率よく炭化水素を水素転化する方法を提供することを目的とする。【構成】 水素添加による炭化水素系生成物は、原料を、水素を大量に含んだガス相をできるだけ少なくし、ポリマー化合物を形成する傾向を有する炭化水素系化合物を選択的に水素添加し、炭化水素系化合物で形成されポリマー前駆物質の濃度が低い第一の水素添加されたストリームをつくりだすように選択された水素添加条件で稼働される第一の水素添加反応ゾーンで、溶存水素を含んでいる水素添加リサイクル液に接触させることによって、ハロゲン化ジオレフィン系有機化合物で構成される原料から生成される。その結果として生じる水素添加ストリームの一部が第二の水素添加ゾーンで追加水素と接触させられて、水素添加ストリームをつくりだし、そのストリームから水素添加炭化水素系生成物ストリームが生成物クリーン・アップ・ステップの後で回収される。
請求項（抜粋）：
ポリマー前駆物質であり、以下のステップで構成されるハロゲン化ジオレフィン系有機化合物で構成される原料の水素転化のためのプロセス。 (a)該原料〔1〕を、水素をたくさん含んだガス相をできるだけ少なくし、該有機化合物を選択的に水素添加し、炭化水素系化合物で構成され、ポリマーを形成する傾向が低い第一の水素添加ストリーム〔3〕をつくりだすように選定された水素添加条件で稼働される第一の触媒水素添加反応ゾーン〔2〕内で、溶存水素を含んでいる水素添加されたリサイクル液〔8〕と接触させること、(b)少なくとも、該第一の水素添加ストリーム〔3〕の少なくとも一部分を、溶存水素を含んでいる第二の水素添加ストリーム〔6〕をつくりだすために、飽和ゾーン〔4〕で水素をたくさん含んだガス性ストリーム〔16〕に接触させること、(c)該第二のストリーム〔6〕の少なくとも一部分を、ステップ(a)にリサイクルさせること、(d)該第二の水素添加ストリーム〔6〕の少なくとも別の一部分を、水素添加炭化水素系化合物および未反応水素で構成される第三の水素添加ストリーム〔11〕をつくりだすように選定された水素添加条件で稼働される第二の触媒水素添加反応ゾーン〔10〕で追加水素と接触させること、および(e)該第三の水素添加ストリームの回収。
IPC (8件)：
B01D 53/36
, B01D 53/34 134
, C07B 61/00 300
, C07C 1/26
, C07C 5/02
, C07C 17/00
, C10G 1/10
, C10G 65/06
