特許

J-GLOBAL ID：200903012973007142

金属材料の耐腐食性評価方法、高耐食合金の設計方法、金属材料の腐食状態診断方法およびプラントの運転方法

発明者： 酒井 政則 ,  大中 紀之 ,  石川 雄一 ,  藤森 治男 ,  磯辺 裕介 ,  高橋 卓也
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 富田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-157567
公開番号（公開出願番号）：特開平8-021793
出願日： 1994年07月08日
公開日（公表日）： 1996年01月23日
要約：

【要約】【目的】 理論的な根拠に基づいた、耐食性合金の設計、プラントの運転、腐食損傷評価を行うこと可能にすること。【構成】 合金の組成は不均一であり、これにともなって合金表面におけるフェルミ準位も場所によって異なっている。つまり、合金は、腐食を受けやすい部分と受けにくい部分とが存在していると考える。腐食速度は、電気二重層内の電位差(ΔφH)の指数関数として示される。該電位差は、フェルミレベルが、禁制帯域内にあるかぎり変化しない。しかし、価電子帯に重なるような範囲では、フェルミレベルの低下は、該電位差の増大につながる。従って、以下の指針に基づいて、合金設計を行う。a)価電子帯の電子準位(Ev)が低い、b)酸化皮膜がn型半導体、c)バンドギャップ(Ec-Ev)が広い、d)フラットバンド電位が低い。

請求項（抜粋）：

目的とする腐食環境下、その表面に半導体を構成する不働態皮膜が形成される金属材料の当該腐食環境下における耐腐食性評価方法において、少なくとも、フラットバンド状態における上記不働態皮膜の価電子帯準位を含む情報に基づいて決定される臨界条件と、上記目的とする腐食環境下において、上記不働態皮膜および該腐食環境を含んで構成される腐食系のフェルミレベルと、を求め、上記フェルミレベルと上記臨界条件とを比較することによって、耐腐食性を評価すること、を特徴とする金属材料の耐腐食性評価方法。

IPC (5件)：

G01N 17/00 ,  C23F 11/18 ,  C23F 15/00 ,  G01N 27/416 ,  G01N 33/20

FI (2件)：

G01N 27/46 341 M ,  G01N 27/46 341 B