特許

J-GLOBAL ID：200903012977472362

脱臭装置

発明者： 貫井 三郎 ,  林 裕二 ,  金本 和夫 ,  今岡 伸一
出願人/特許権者： 菱農エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 河野 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-143524
公開番号（公開出願番号）：特開2000-325752
出願日： 1999年05月24日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 臭気成分を含んだガスを光触媒との接触を充分に行わせながら、ガスの排気抵抗を可及的に減少させて排気を円滑に行うことができる脱臭装置を提供する。【解決手段】 臭気成分を含むガスを送給する送気口72と、ガスを排出する排出口73を有した密閉状の脱臭室7aを形成する容器70内に、ガスの排出方向に沿うと共に該ガスの排出を遮る縦方向に、2酸化チタンからなる光触媒を備えて通気性を有するように形成した複数の触媒幕75を、ガスの排出処理路6bを有して列設すると共に、該触媒幕75の列設方向に沿って紫外線を照射するランプ76を設けることによりガスの脱臭を行うように脱臭装置を構成した。

請求項（抜粋）：

臭気成分を含むガスを送給する送気口(72)と、ガスを排出する排出口(73)を有した密閉状の脱臭室(7a)を形成する容器(70)内に、ガスの排出方向に沿うと共に該ガスの排出を遮る縦方向に、2酸化チタンからなる光触媒を備えて通気性を有するように形成した複数の触媒幕(75)を、ガスの排出処理路(6b)を有して列設すると共に、該触媒幕(75)の列設方向に沿って紫外線を照射するランプ(76)を設けることによりガスの脱臭を行うように構成した脱臭装置。

IPC (6件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B01J 21/06 ,  B01J 35/02

FI (5件)：

B01D 53/36 ZAB H ,  B01J 21/06 A ,  B01J 35/02 J ,  B01D 53/34 116 F ,  B01D 53/36 J

Fターム (36件)：

4D002AB02 ,  4D002BA14 ,  4D002CA06 ,  4D002DA35 ,  4D002DA51 ,  4D002EA01 ,  4D002EA05 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB03 ,  4D048AA22 ,  4D048AB01 ,  4D048AC07 ,  4D048BA07X ,  4D048BA13X ,  4D048BA41X ,  4D048BB08 ,  4D048BB12 ,  4D048BB18 ,  4D048CA01 ,  4D048CC38 ,  4D048CC52 ,  4D048DA02 ,  4D048DA06 ,  4D048EA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA11 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA48A ,  4G069CA04 ,  4G069CA17 ,  4G069EA09 ,  4G069EE07