特許

J-GLOBAL ID：200903012979794014

メンブレンマスク及びその製造方法

発明者： 河田 真太郎
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 渡部 温
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-306400
公開番号（公開出願番号）：特開2000-124117
出願日： 1998年10月14日
公開日（公表日）： 2000年04月28日
要約：

【要約】【課題】 メンブレンとそれを支持する支持部との接触部分への応力集中を緩和することによりメンブレン破壊を防止したメンブレンマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明に係るメンブレンマスクは、荷電ビームを照射してパターンを転写するものである。このメンブレンマスクは、シリコンウエハをエッチングすることにより形成されるものであり、該パターンが形成されるメンブレン13と、該メンブレン13を支持する壁状の支持部3と、を具備し、該メンブレン13と該支持部3との接触角が10°以上45°以下である。また、上記メンブレン13と上記支持部3との接触部は曲率を有する。

請求項（抜粋）：

荷電ビームを照射してパターンを転写するメンブレンマスクであって;基板をエッチングすることにより形成された、該パターンが形成されるメンブレンと、該メンブレンを支持する支持部と、を具備し、該メンブレンと該支持部との接触角が10°以上45°以下であることを特徴とするメンブレンマスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (2件)：

H01L 21/30 541 S ,  G03F 1/16 B

Fターム (8件)：

2H095BA08 ,  2H095BB15 ,  2H095BB16 ,  2H095BC28 ,  2H095BC30 ,  5F056AA06 ,  5F056EA04 ,  5F056FA05