特許
J-GLOBAL ID：200903012990828974
塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-260011
公開番号（公開出願番号）：特開平7-115264
出願日： 1993年10月18日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、基板表面の状態等により実際に塗布される塗布状態に異常が発生しないように、塗布動作に関するNCデータ内の塗布条件の設定作業が容易にできるようにすることを目的とする。【構成】 本塗布動作前に塗布された基板(1)上の接着剤の塗布状態がCCDカメラ(10)により認識される。この認識結果とRAM(15)に記憶されたその塗布状態に対応した基準データとがCPU(17)により比較される。この比較結果は、RAM(15)に記憶される。そして、CPU(17)は該RAM(15)に記憶された比較結果を基に塗布条件を修正するための修正データを算出し、CRT(25)は該修正データを表示する。
請求項（抜粋）：
ノズルを介してプリント基板にシリンジ内の塗布剤を塗布する塗布装置に於いて、本塗布動作前に前記基板に塗布された塗布剤の塗布状態を認識する認識装置と、該認識装置により認識される塗布状態に対応する基準データを記憶する第1の記憶装置と、前記認識装置による認識結果と該記憶装置に記憶された基準データとを比較する比較装置と、該比較装置による比較結果を記憶する第2の記憶装置と、該第2の記憶装置に記憶された比較結果から異常と判定された塗布ステップを表示する表示装置とを設けたことを特徴とする塗布装置。
IPC (3件)：
H05K 3/34 504
, B05C 5/00
, B05C 5/00 101
