特許

J-GLOBAL ID：200903012993402684

電極構造体及び該構造体を使用する電解方法

発明者： 田中 正志 ,  山田 裕二
出願人/特許権者： ペルメレック電極株式会社 ,  社団法人新化学発展協会
代理人 (1件)： 森 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-230231
公開番号（公開出願番号）：特開2002-206186
出願日： 2001年07月30日
公開日（公表日）： 2002年07月26日
要約：

【要約】【課題】 ガス拡散電極を使用する各種電解では、供給される反応ガスがガス拡散電極を透過し反応サイトに達する必要があり、ガス拡散電極のガス透過が比較的起こりにくいため、反応サイトにおける反応物質量が不足しがちで、反応速度が遅くなったり、多量の触媒を必要としていた。【解決手段】 イオン交換膜法電解槽11におけるガス拡散電極15とイオン交換膜12間の反応サイトに高いガス保持能力を有する気液透過層19を設置する。この気液透過層はガス拡散電極を透過して供給される反応ガスを保持して充分な量の反応ガスを反応サイトに存在させることを可能にする。

請求項（抜粋）：

イオン交換膜に近接してガス拡散電極が配置された電極構造体において、前記イオン交換膜とガス拡散電極の電極触媒層間に、水に対する接触角が90°以上である気液透過層を設置したことを特徴とする電極構造体。

IPC (4件)：

C25B 11/03 ,  C25B 1/16 ,  C25B 9/00 ,  C25B 9/10

FI (4件)：

C25B 11/03 ,  C25B 1/16 ,  C25B 9/00 E ,  C25B 9/00 M

Fターム (12件)：

4K011AA04 ,  4K011AA11 ,  4K011AA21 ,  4K011AA23 ,  4K011AA68 ,  4K011DA03 ,  4K021AB01 ,  4K021BA03 ,  4K021DB05 ,  4K021DB16 ,  4K021DB34 ,  4K021DB53