蛍光X線分析装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：田治米登 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-167008
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334480
出願日： 1995年06月07日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】蛍光X線分析で試料表面の元素の二次元的分布を分析するにあたり、励起X線、試料、検出器の二次元駆動機構を不要とし、簡便な機構でかつ高い分解能で、短時間に分析できるようにする。【構成】蛍光X線分析装置に、試料表面Sに励起ビームL0 を照射する励起源、励起ビームL0 の照射により試料から発せられた蛍光X線LS 、Lx を結像させる結像手段1、及び結像手段1による蛍光X線像Ix の二次元的強度分布を記録する蛍光X線検出器2を設ける。結像手段1としてはピンホール1A を設け、蛍光X線検出器2としてはイメージングプレートを設けることが好ましい。

請求項（抜粋）：

試料表面に励起ビームを照射する励起源、励起ビームの照射により試料から発せられた蛍光X線を結像させる結像手段、及び結像手段による蛍光X線像の二次元的強度分布を記録する蛍光X線検出器を備えていることを特徴とする蛍光X線分析装置。

引用特許：

審査官引用 (6件)

特公昭43-026039
特開平2-016500
特開昭57-106032

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