特許
J-GLOBAL ID：200903012997055474
ハーフトーンフォトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-029014
公開番号（公開出願番号）：特開平6-242593
出願日： 1993年02月18日
公開日（公表日）： 1994年09月02日
要約：
【要約】【目的】 欠陥を含むことなく容易に形成することができかつ高い解像度を有するハーフトーンフォトマスクを提供することを目的とする。【構成】 透光性基板上に形成された単一のハーフトーン遮光層を備え、その遮光層はn-ikの複素屈折率を有し、nの値は基板のみを透過した光と基板および遮光層を透過した光との位相差が半波長になるように設定され、kの値は遮光パターンの透光率が所定の値になるように設定されている。
請求項（抜粋）：
透光性基板と、前記透光性基板上に形成された単一のハーフトーン遮光層のみを含む遮光パターンとを備え、前記ハーフトーン遮光層はn-ikの複素屈折率を有し、前記nの値は、前記基板のみを透過した光と前記基板および前記遮光パターンを透過した光との位相差が半波長になるように設定されており、前記前記kの値は、前記遮光パターンの透光率が所定の値になるように設定されていることを特徴とするハーフトーンフォトマスク。
IPC (2件)：
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