特許
J-GLOBAL ID：200903012997697433
射出成形品の設計パラメータ決定方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 信一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-397960
公開番号（公開出願番号）：特開2002-192589
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：
【要約】【課題】 射出成形品のウェルド位置を所望の位置に容易に設定することを可能にする射出成形品の設計パラメータ決定方法および装置を提供する。【解決手段】 成形品の形状および成形条件に関する設計パラメータ、設計パラメータの制約条件、ウェルド形成位置に関する目的関数、ウェルド形成位置が適正となる場合の目的関数の目的条件をそれぞれ設定すると共に、成形品の形状を複数の微小要素に分割した計算用モデルを作成し、成形条件および計算用モデルを用いた目的関数の解析値の算出と、設計パラメータの変更とを、ウェルド形成位置が適正であると判定されるまで繰り返す。
請求項（抜粋）：
ウェルド部を有する射出成形品の設計パラメータ決定方法であって、(1)前記成形品の形状および成形条件に関する設計パラメータを設定する設計パラメータ設定工程と、(2)設計パラメータの制約条件を設定する制約条件設定工程と、(3)ウェルド形成位置に関する目的関数を設定する目的関数設定工程と、(4)ウェルド形成位置が適正となる場合の目的関数の目的条件を設定する目的条件設定工程と、(5)前記成形品の形状を複数の微小要素に分割した計算用モデルを作成する計算用モデル作成工程と、(6)前記成形条件および計算用モデルを用いて、目的関数の解析値を算出する流動解析工程と、(7)前記目的条件および前記解析値に基づいてウェルド形成位置の適否を判定する判定工程と、(8)ウェルドが所望する位置で形成されていない場合に、設計パラメータを制約条件の範囲内で変更する設計パラメータ制御工程と、を含み、前記判定工程においてウェルド形成位置が適正であると判定されるまで少なくとも前記(6)〜(8)の各工程を繰り返すことを特徴とする射出成形品の設計パラメータ決定方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (17件)：
4F202AM23
, 4F202AM36
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CD03
, 4F202CD28
, 4F202CL42
, 4F202CN01
, 4F202CN05
, 4F202CS10
, 4F206AM23
, 4F206AM36
, 4F206JA07
, 4F206JP13
, 4F206JP18
, 4F206JP27
, 4F206JP30
