特許

J-GLOBAL ID：200903013016202584

投影露光方法およびその装置

発明者： 寺澤 恒男 ,  岡崎 信次 ,  伊東 昌昭 ,  瀬谷 英一 ,  片桐 創一
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-094067
公開番号（公開出願番号）：特開平5-291117
出願日： 1992年04月14日
公開日（公表日）： 1993年11月05日
要約：

【要約】【目的】X線領域あるいは真空紫外領域のビームを露光光として用い、反射型縮小投影光学系を介してマスク上のパターンをウェハ上に縮小転写する際、長時間にわたって光学系の時間的熱変形を防止する。【構成】投影光学系を構成する多層膜鏡の裏面を冷却する手段32と、多層膜鏡に吸収されるエネルギが常に一定値となるように加熱量を制御する加熱手段31を設ける。

請求項（抜粋）：

X線領域あるいは真空紫外領域のビームを放射する光源を用いて、第1の基板上に描かれているパターンを結像光学系を介して第2の基板上に縮小転写する投影露光方法であって、前記結像光学系を構成する光学素子を連続的あるいは間歇的に加熱しながらパターン転写を行なうことを特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 331 E ,  H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 331 A