特許

J-GLOBAL ID：200903013018851490

ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの製造法

発明者： 布村 昌隆 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-132961
公開番号（公開出願番号）：特開平5-323602
出願日： 1992年05月26日
公開日（公表日）： 1993年12月07日
要約：

【要約】【目的】 高い解像度を有し、微細加工用に適したレジストパターンを得ることができ、半導体デバイス製造に特に有用であるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂および1,2-キノンジアジド化合物を含む組成物に一般式〔I〕で表される化合物を配合してなるポジ型ホトレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターンの製造法。【化1】(式中nは1〜25の整数である)

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂および1,2-キノンジアジド化合物を含む組成物に、一般式〔I〕で表される化合物を配合してなるポジ型ホトレジスト組成物。【化1】(式中nは1〜25の整数である)

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027