特許
J-GLOBAL ID：200903013036735775
着色パターン形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-068243
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273410
出願日： 1992年03月26日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 有機ポリシランを紫外線照射することにより生じるシラノール基を利用した染色法を改善し、低コストで製造可能であり、優れたパターン精細度のRGBカラーフィルタを得ることが可能な着色パターン形成法を提供する。【構成】 a)基板上に設けられたポリシラン層を選択的に紫外線露光して着色パターンの潜像を形成する工程と、b)着色パターンの潜像が形成された該ポリシラン層を、少なくとも1種類の染料または顔料を含む、金属アルコキシドを原料とする着色ゾル溶液に浸漬した後に乾燥する工程とを包含するパターン着色工程およびc)該ポリシラン層に異なる着色パターンの潜像を形成すること、および異なる染料または顔料を用いること以外は、該パターン着色工程と同様にして少なくとも1回行われる別のパターン着色工程を包含する。
請求項（抜粋）：
a)基板上に設けられた式【化1】[式中、R1、R2、R3およびR4は置換もしくは無置換の脂肪族炭化水素残基、脂環式炭化水素残基および芳香族炭化水素残基からなる群からそれぞれ独立して選択される基であり、mおよびnは整数である。]で示される構造のポリシランからなるポリシラン層を選択的に紫外線露光して着色パターンの潜像を形成する工程と、b)着色パターンの潜像が形成された該ポリシラン層を、少なくとも1種類の染料または顔料を含む、金属アルコキシドを原料とする着色ゾル溶液に浸漬した後に乾燥する工程とを包含するパターン着色工程; およびc)該ポリシラン層に異なる着色パターンの潜像を形成すること、および異なる染料または顔料を用いること以外は、該パターン着色工程と同様にして少なくとも1回行われる別のパターン着色工程;を包含するポリシラン層に多色着色パターンを形成する方法。
IPC (2件)：
G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
