特許
J-GLOBAL ID：200903013040230793
パターン欠陥検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-105766
公開番号（公開出願番号）：特開平5-281154
出願日： 1992年03月31日
公開日（公表日）： 1993年10月29日
要約：
【要約】【目的】被検査パターンと基準パターンとの位置ずれに起因してエッジやコーナー近傍で起こる誤欠陥検出を防止できるパターン欠陥検査装置を提供する。【構成】検査領域23の外側の領域24で被検査パターンと基準パターンとの位置合わせを行なって検査領域23の両パターン位置を補正し、この状態で欠陥を検出するようにしている。
請求項（抜粋）：
被検査パターンと基準パターンとの2次元の画像を入力する手段と、前記被検査パターンの第1の領域および上記第1の領域を囲む第2の領域を切り出す手段と、前記基準パターンの第3の領域および上記第3の領域を囲む第4の領域を切り出す手段と、前記第2の領域に対し前記第4の領域のパターンを位置合せする手段と、前記第3の領域のうちの前記第1の領域に対して位置合せされた第5の領域を得る手段と、前記第1の領域と前記第5の領域において欠陥を判定する手段とを具備してなることを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G03F 1/08
, G06F 15/62 405
, H01L 21/027
