特許

J-GLOBAL ID：200903013042900192

低反射黒色膜およびその製造方法

発明者： 石橋 暁 ,  堀 隆英 ,  清田 淳也 ,  中村 久三 ,  中村 肇 ,  杉浦 功
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-260123
公開番号（公開出願番号）：特開平9-101404
出願日： 1995年10月06日
公開日（公表日）： 1997年04月15日
要約：

【要約】【課題】 従来のCr/CrOxから成る積層構造の低反射黒色膜の反射率を、より低反射とした低反射黒色膜の提供。【解決手段】 金属薄膜と金属酸化物薄膜とから成る積層構造の低反射黒色膜のにおいて、前記金属酸化物薄膜は鉄を主成分とする金属酸化物であり、また前記金属薄膜は鉄を主成分とする金属である低反射黒色膜。

請求項（抜粋）：

金属薄膜と金属酸化物薄膜とから成る積層構造の低反射黒色膜において、前記金属酸化物薄膜は鉄を主成分とする金属酸化物であり、また前記金属薄膜は鉄を主成分とする金属であることを特徴とする低反射黒色膜。

IPC (3件)：

G02B 5/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

FI (3件)：

G02B 5/00 B ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505