特許
J-GLOBAL ID：200903013046906748
化合物薄膜形成装置、酸化物薄膜形成装置、および光学多層膜の成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-023911
公開番号（公開出願番号）：特開平6-240440
出願日： 1993年02月12日
公開日（公表日）： 1994年08月30日
要約：
【要約】【目的】 広い面積で均一な膜質を有する薄膜の作成装置と方法を提供する。【構成】 酸化物からなる薄膜層を有する光学多層膜を成膜するにあたり、蒸発源23より発する蒸発粒子流22内に酸素ガス導入管21を設け、酸素ガスを導入しつつ酸化物を成膜する。【効果】 上記の構成により、蒸発粒子と酸素ガスの空間分布が近くなり、広い成膜面積で均一な膜質をもつ光学多層膜が得られる。これにより従来、高精度な波長精度を要求される光学多層膜にとって課題であったサンプル間の耐環境性ばらつきを非常に少なくできるため、製造上極めて有効である。
請求項（抜粋）：
蒸発源から発する蒸発粒子流内に反応ガス導入ポ-トを有し、前記反応ガス導入ポ-トが上向きに反応ガスを導入することを特徴とする化合物薄膜形成装置。
IPC (4件)：
C23C 14/08
, C23C 14/24
, C23C 28/04
, G02B 5/28
