パターン欠陥検査装置

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-250046
公開番号（公開出願番号）：特開平10-097053
出願日： 1996年09月20日
公開日（公表日）： 1998年04月14日
要約：

【要約】【課題】透過光のみ、または反射光のみを使用した場合よりも、パタ-ン欠陥検出をより高感度に行うことができるパタ-ン欠陥検査装置を提供すること。【解決手段】一つの光源と、この光源からの光が導かれる透過照明光学系と、前記光源からの光が導かれる反射照明光学系と、これら透過照明光学系および反射照明光学系を通る光を切り替える切り換え手段と、前記透過照明光学系および反射照明光学系を通る光の切り替えられた一方、または両方を同時に試料に対して照射する手段と、前記透過光のみ、反射光のみ、または透過光と反射光とを同時に受光可能な受光素子と、この受光素子からの信号に基づき、前記試料面上に形成されたパターン像に対応する測定データを得る手段と、この測定データから、チップ比較方式または設計データ比較方式によりパタ-ンの欠陥を検出する手段とを具備することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

光源からの光が導かれる透過照明光学系と、前記光源と同一の波長の光が導かれる反射照明光学系と、これら透過照明光学系および反射照明光学系を通る光を切り替える切り換え手段と、前記透過照明光学系および反射照明光学系を通る光の切り替えられた一方、または両方を同時に試料に対して照射する手段と、前記透過光のみ、反射光のみ、または透過光と反射光とを同時に受光可能な受光素子と、この受光素子からの信号に基づき、前記試料面上に形成されたパターン像に対応する測定データを得る手段と、この測定データから、チップ比較方式または設計データ比較方式によりパタ-ンの欠陥を検出する手段とを具備するパターン欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (3件)：

G03F 1/08 S , G01N 21/88 E , H01L 21/66 J

引用特許：

審査官引用 (14件)

特開平2-210250
特開平4-285959
欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-226509 出願人：株式会社東芝

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