特許

J-GLOBAL ID：200903013056513710

マスクパターンデータ検査装置、及びマスクパターンデータ最適設計装置

発明者： 茂庭 明美 ,  寺澤 恒男 ,  岡崎 信次 ,  長谷川 昇雄 ,  田中 稔彦 ,  茂庭 昌弘
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-140302
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334888
出願日： 1995年06月07日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：

【要約】【目的】所望するデバイス構造を得るためのマスクパターンの検図、及びマスクパターンの最適設計方法および装置を提供する。【構成】設計パターンデータをマスクパターンファイルf2から処理手段s12で読み込み,投影像計算,その後の加工プロセスのシミュレーション等を行ってデバイスの加工後平面形状を処理手段1で予測し、処理手段s2で、パターンの許容面積範囲,パターンの許容寸法範囲,パターン間の許容距離範囲、及び層間のパターンの合わせ余裕等で表現された所望するデバイスの構造のデータからなるデバイス構造ルールファイル1のルールを用いてルール違反個所を抽出し、ルール違反個所の表示を処理手段s3で行う。

請求項（抜粋）：

所望のデバイスを得るために設計されたマスクパターンデータの検査において、設計マスクパターンデータを読み込む手段と、前記マスクパターンから得られるデバイス構造の予測手段と、所望するデバイス構造のルールを読み込む手段と、前記デバイス構造が前記デバイス構造ルールを満たしているか否かを検査する手段と、前記検査結果の表示手段とを備えたことを特徴とするマスクパターンデータ検査装置。