特許
J-GLOBAL ID：200903013060723990
焦点位置検出装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-354682
公開番号（公開出願番号）：特開平5-175100
出願日： 1991年12月19日
公開日（公表日）： 1993年07月13日
要約：
【要約】【目的】 より正確に投影光学系の焦点位置を検出できるようにする。【構成】 ウェハWに隣接するパターン板4に形成された開口パターンと、この開口パターンに照明光ELを導く検出用照明光学系5b,8〜10と、照明光ELの下で投影光学系PLを介してマスクパターンPAの形成面に形成された後、投影光学系PLを介して戻って来るその開口パターンの像をその開口パターンで制限して得られた光量に対応する焦点信号を生成する光電センサと、照明光EL用の検出用照明光学系5b,8〜10のσ値を任意に設定するズームレンズ18,19とを有する。
請求項（抜粋）：
露光用照明光学系に照明されたマスクパターンの像を投影光学系を介して感光基板上に投影する投影露光装置の前記投影光学系の焦点位置を検出する装置において、前記感光基板に隣接する基準面に形成された開口パターンと、該開口パターンに照明光を導く検出用照明光学系と、該照明光の下で前記投影光学系を介して前記マスクパターンの形成面に形成された後、前記投影光学系を介して戻って来る前記開口パターンの像を前記開口パターンで制限して得られた光量に対応する焦点信号を生成する検出器と、前記検出用照明光学系の照明光の前記投影光学系の瞳面における照度分布を任意に設定する照度分布設定手段とを有する事を特徴とする焦点位置検出装置。
IPC (2件)：
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