特許
J-GLOBAL ID：200903013061773070
セラミド及びカチオン性基を含有する高分子を使用した頭髪及び皮膚の洗浄及び処理組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-098256
公開番号（公開出願番号）：特開平8-059443
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年03月05日
要約：
【要約】【目的】 頭髪及び/若しくは皮膚の洗浄及び処理用組成物及び、該組成物を使用した頭髪及び/若しくは皮膚のコンディショニング工程を提供する。【構成】 本組成物は、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤、少なくとも1種の双極イオン性界面活性剤を美容的に許容可能な媒質中に含有し、これらの界面活性剤洗剤中に少なくとも4重量%で添加され、さらに少なくとも1種のカチオン基を含有する高分子、及びさらに少なくとも1種のセラミド及び/若しくは1種のグリコセラミドを含有することを特徴し、また該組成物を使用した頭髪及び/若しくは皮膚のコンディショニング工程に関する。
請求項（抜粋）：
美容上許容される媒質中に、少なくとも1種のアニオン性界面活性剤、少なくとも1種の双極イオン性界面活性剤であってこれらの界面活性剤が洗剤中に少なくとも4重量%に等しい割合で存在し、さらに少なくとも1種のカチオン基を含有する高分子、さらに少なくとも1種のセラミド及び/若しくは1種のグリコセラミドを含有することを特徴とする頭髪及び/若しくは皮膚洗浄及び処理用組成物。
IPC (5件)：
A61K 7/075
, A61K 7/50
, C11D 1/94
, C11D 3/32
, C11D 3/37
