特許

J-GLOBAL ID：200903013063841544

X線撮像の際に発生される誤照射を検出する方法及びシステム、並びに患者のX線撮像の際に発生される誤照射を修正する方法及びシステム

発明者： ジェームス・ケネス・アラゴンズ
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 生沼 徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-126900
公開番号（公開出願番号）：特開平10-043170
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：

【要約】【課題】 画質を向上させることのできるX線撮像の際に発生される誤照射を検出又は修正する方法及びシステムを提供する。【解決手段】 患者14を撮像するためのX線撮像セッティングが選択される。X線ビームのクオリティ及びX線の量の値が、選択されたX線撮像セッティングから発生される。照射割合がX線ビームのクオリティ及びX線の量の値から予測される。患者14は次いで、発生されたX線ビームのクオリティ及びX線の量の値を有しているX線ビームに照射される。全照射割合が決定されて、予測された照射割合と比較される。この比較は、患者が誤ったレベルで照射されているかどうかを判断するために用いられる。照射が正確なレベルであれば、その後、照射は終了する。しかしながら、照射が正確なレベルでなければ、その後、照射は停止されて、新たな照射レベルに調整される。

請求項（抜粋）：

患者のX線撮像の際に発生される誤照射を検出する方法であって、前記患者を撮像するためのX線撮像セッティングを選択する工程と、選択された該X線撮像セッティングからX線ビームのクオリティの値及びX線の量の値を発生する工程と、該X線ビームのクオリティの値及びX線の量の値から照射割合を予測する工程と、発生された前記X線ビームのクオリティの値及びX線の量の値を有しているX線ビームに前記患者をさらす工程と、前記患者に対する全照射を求める工程と、該全照射を予測された前記照射割合と比較して、比較された値を求める工程と、前記比較された値を用いて、前記患者が誤ったレベルでさらされているかどうかを判断する工程とを備えたX線撮像の際に発生される誤照射を検出する方法。

IPC (2件)：

A61B 6/00 320 ,  H05G 1/64

FI (2件)：

A61B 6/00 320 Z ,  H05G 1/64 M