特許

J-GLOBAL ID：200903013073740851

新規なスルホキソニウム塩

発明者： デビット アラン テイラー ,  エドワード イルヴィング ,  ロバート ジェームズ ラン
出願人/特許権者： チバ-ガイギー アクチエンゲゼルシャフト
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-119692
公開番号（公開出願番号）：特開平5-178819
出願日： 1992年04月13日
公開日（公表日）： 1993年07月20日
要約：

【要約】【構成】分子内に重合性基を含有するかまたは高分子化合物の一部であるアリールスルホキソニウム塩とその製造方法および使用方法。重合性基を有するアリールスルホキソニウム塩は、次式I:【化1】〔式中、Rは(メタ)アクリレート基、ビニルエーテル基等を含有し、XおよびZは、同じかまたは異なって、一価の置換基を表し、ならびにpおよびqは、同じかまたは異なって、0かまたは6未満の整数を表す。〕を持つ。スルホキソニウム基がポリマーの一部である化合物は反応性基を有するポリマーと、該反応性基と反応する基を有するスルホニウムまたはスルホキソニウム塩とを反応させ、スルホニウム塩の場合はスルホキソニウム塩に変換することにより得られる。【効果】 上記化合物はカチオン性重合性物質に対するカチオン光開始剤として有益である。

請求項（抜粋）：

分子内に重合性基を含有するかまたは高分子化合物の一部であるアリールスルホキソニウム塩。

IPC (8件)：

C07C381/00 ,  C08F 2/50 MDN ,  C08F 12/30 MJY ,  C08F 20/38 MMU ,  C08F246/00 MPY ,  C08G 59/68 NKL ,  C08G 75/02 NTX ,  C08K 5/42