特許

J-GLOBAL ID：200903013074138802

基板処理装置の処理液供給ノズル

発明者： 吉井 弘至 ,  笹田 滋
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-191882
公開番号（公開出願番号）：特開平10-035791
出願日： 1996年07月22日
公開日（公表日）： 1998年02月10日
要約：

【要約】【課題】 処理液流通路内の処理液を付着残留させることなくほぼ完全に吐出させることにより、処理液のぼた落ちを防止することができる。【解決手段】 先端部7に現像液が流通する処理液流通路7aを有し、この処理液流通路7aに連通した吐出孔7bから基板の表面に現像液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、処理液供給ノズルの先端部7のうち、少なくとも処理液流通路7aの内面に超撥水性層Sを形成しておく。現像液は、処理液流通路7aおよび吐出孔7bを通って吐出されるが、吐出が停止されると処理液流通路7a内の現像液は、そこに付着残留することなく重力によって容易に下方に落下する。

請求項（抜粋）：

先端部に所定の処理液が流通する処理液流通路を有し、この処理液流通路に連通した吐出孔から基板の表面に処理液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記処理液供給ノズルの先端部のうち、少なくとも前記処理液流通路の内面を超撥水性材料で形成したことを特徴とする基板処理装置の処理液供給ノズル。

IPC (6件)：

B67D 5/02 ,  B05C 5/00 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341

FI (7件)：

B67D 5/02 Z ,  B05C 5/00 Z ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C