特許
J-GLOBAL ID：200903013076010676
マルチビーム光源装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158933
公開番号（公開出願番号）：特開平8-030999
出願日： 1994年07月11日
公開日（公表日）： 1996年02月02日
要約：
【要約】【目的】レーザープリンター等における光書き込み光学系の光源や、光ピックアップ等の光源として用いられる新規な構成のマルチビーム光源装置を提供し、さらに、マルチビームの間隔を微細にする手段を提供する。【構成】複数の光源1-a〜1-dからなる光源アレー1と集光光学系2とからなり、上記光源アレー1からの出射光を集光光学系2と光源波長から求まる集光光学系2の回折限界程度になるように縮小結像させる構成とすることにより、複数のビーム光源で各ビーム間隔Lが回折限界のスポット径dの2倍程度以下となることを特徴とする。【効果】複数ビーム光源で各ビーム間隔を回折限界のスポット径の2倍程度以下とすることができるため、微細な間隔のマルチビームを得ることができる。
請求項（抜粋）：
複数の光源からなる光源アレーと集光光学系とからなり、上記光源アレーからの出射光を上記集光光学系と光源波長から求まる集光光学系の回折限界程度になるように縮小結像させる構成とすることにより、複数のビーム光源で各ビーム間隔が回折限界のスポット径の2倍程度以下となることを特徴とするマルチビーム光源装置。
IPC (2件)：
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