特許

J-GLOBAL ID：200903013079060755

水素発生装置

発明者： 清水 洋昭 ,  柘植 穂高 ,  小松崎 明広
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (2件)： 下田 容一郎 ,  田宮 寛祉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-032064
公開番号（公開出願番号）：特開2004-238272
出願日： 2003年02月10日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【解決手段】化学反応部にシリンダ71の一端を連通させ、このシリンダ71にピストン72を移動可能に挿入してシリンダ71内にピストン72を境にしてシリンダ71の一端側の第1室77及びシリンダ71の他端側の第2室78を形成し、これら第1室77と第2室78との間を連通路83で接続するとともにこの連通路83に水素分離膜82を設けた。【効果】ピストンの移動により第1室内に供給した混合ガスを高圧にでき、混合ガスから水素を効率的に分離することができる。また、ピストンの移動によって第1室の容積を小さくするとともに、第1室の容積がほぼ最小となるタイミングで混合ガスのうちの水素を分離して残った残留ガスを排出すれば、第1室に残る残留ガスを少なくでき、次に第1室内へ混合ガスを供給するときに混合ガスの供給量を多くできて、水素生成効率を高めることができる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

化学反応部にて炭化水素または脂肪族アルコールを原料とする原料ガスから化学的工程により水素を含有する混合ガスを生成し、この混合ガスから水素を水素分離膜により選択的に分離する水素発生装置において、 前記化学反応部にシリンダの一端を連通させ、このシリンダにピストンを移動可能に挿入してシリンダ内にピストンを境にしてシリンダ一端側の第1室及びシリンダ他端側の第2室を形成し、これら第1室と第2室との間を連通路で接続するとともにこの連通路に前記水素分離膜を設けることで、前記第1室へ供給した混合ガスをピストンで圧縮し、このときに発生する圧力で第1室内に含まれる水素を水素分離膜で分離するとともに第2室へ移動させて回収することを特徴とする水素発生装置。

IPC (4件)：

C01B3/56 ,  B01D53/22 ,  C01B3/38 ,  H01M8/06

FI (4件)：

C01B3/56 Z ,  B01D53/22 ,  C01B3/38 ,  H01M8/06 R

Fターム (26件)：

4D006GA41 ,  4D006HA41 ,  4D006JA52A ,  4D006JA63A ,  4D006JA71 ,  4D006KA12 ,  4D006KA16 ,  4D006KA61 ,  4D006KB30 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02 ,  4D006PA01 ,  4D006PB20 ,  4D006PB66 ,  4D006PC80 ,  4G140FA02 ,  4G140FB04 ,  4G140FB05 ,  4G140FB06 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16