特許
J-GLOBAL ID：200903013079116351
微細構造物の製法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-267432
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267929
出願日： 1993年10月26日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 犠牲層を用いて、その上に各種の構造層を被覆することのできる、単純、信頼性のある微細構造物の製法を提供する。【構成】 基板(10)の上に犠牲層(12)を配置し、その上に構造層(14)を被覆、固定する。次に、構造層に穴をあけ、その穴の幾つかをポリマー層で被覆し、被覆していない穴を通して犠牲層を食刻し、ボイド領域を基板にまで延在させる。次にボイド領域に保護ポリマー層で充填し、基板と構造層との間の一時的な柱(24)をつくる。次に犠牲層を湿式食刻するが、前記柱がその間に発生する毛管力に対する支持体となる。その後でこの柱を乾式食刻によって除去する。結果として、基板に固定された、自立型の構造層を有した微細構造物が得られる。
請求項（抜粋）：
微細構造物の製法において、基板を準備する工程と、前記基板の表面に犠牲層を被覆する工程と、前記犠牲層の表面に構造層を被覆し、前記犠牲層が前記基板と構造層との間に位置して、前記構造層が前記基板に固定されるようにする工程と、前記構造層を支持するために、前記構造層から前記基板の方への延在する、少なくとも1つの一時的な柱を形成する工程と、前記犠牲層を除去する工程と、前記一時的な柱を除去する工程とを含むことを特徴とする微細構造物の製法。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/302
