特許

J-GLOBAL ID：200903013088425014

収容装置、マスク、及び露光装置

発明者： 田窪 信也 ,  小杉 潤一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-207504
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032555
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】 小規模の基板処理システムにおいてもマスク及び基板の管理を容易に行えるようにする。【解決手段】 複数のウエハWを収納するウエハキャリア50には、収納されたウエハに関する情報を個別に記憶する記憶装置53が設けられている。記憶装置53に記憶された情報は通信装置26により読み出され、露光、その他の処理に利用されるとともに、処理履歴等の情報が通信装置26を介して書き込まれる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

第1物体上のパターンを第2物体上に転写する露光処理を行う露光装置、又は該露光装置での該露光処理の前又は後の該第2物体に対して所定処理を施す処理装置に供され、且つ該第1及び第2物体の何れかを収容する収容装置であって、 前記収容する物体に施された処理又はこれから施す処理に関する情報、或いは該物体の物理的な固有情報を記憶すると共に、該情報の更新又は新たな情報の書き込みが可能な記憶部を有することを特徴とする収容装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/02

FI (5件)：

H01L21/30 503E ,  G03F1/14 Z ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/30 514F

Fターム (8件)：

2H095BE12 ,  5F046AA16 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CD04 ,  5F046DD03 ,  5F046DD06

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-159687   出願人：株式会社ニコン
• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-311518   出願人：株式会社ニコン
• 搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-110099   出願人：株式会社ニコン
• 半導体露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-356963   出願人：キヤノン株式会社