特許

J-GLOBAL ID：200903013098424024

反射防止体およびその製造方法

発明者： 田中 興一 ,  古橋 繁樹
出願人/特許権者： 日本化薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-138834
公開番号（公開出願番号）：特開平8-313703
出願日： 1995年05月15日
公開日（公表日）： 1996年11月29日
要約：

【要約】【目的】合成に伴う複雑な操作を必要とせず、基板上で重合反応を行うことにより、反射防止効果を有する反射防止体を提供する。【構成】基板上の少なくとも一面に、一分子中に少なくとも1個のイソシアネート基を有するフッ素化合物と、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物との反応によって生成したフッ素化合物の皮膜が存在する反射防止体。

請求項（抜粋）：

基板上の少なくとも一面に、一分子中に少なくとも1個のイソシアネート基を有するフッ素化合物と、イソシアネート基と反応する官能基を有する化合物との反応によって生成したフッ素化合物の皮膜が存在することを特徴とする反射防止体。