特許
J-GLOBAL ID：200903013100344874
チャープトファイバグレーティング
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-008458
公開番号（公開出願番号）：特開平8-201609
出願日： 1995年01月23日
公開日（公表日）： 1996年08月09日
要約：
【要約】【目的】 反射光の反射波長域が1nmから20nm程度までの広い反射特性を持つチャープトファイバグレーティングを容易に製造できるようにする。【構成】 光ファイバのファイバ径、コア径、コア屈折率などの導波構造を光ファイバの長さ方向に局所的に連続的に変化させておき、この部分に従来のグレーティング周期が一定のグレーティングを干渉法やホトマスク法によって形成する。
請求項（抜粋）：
光ファイバの長さ方向に導波構造の連続的変化を形成し、この変化部分にグレーティングを形成したことを特徴とするチャープトファイバグレーティング。
IPC (2件)：
G02B 5/18
, G02B 6/00 301
