特許

J-GLOBAL ID：200903013111174474

樹脂基板の表面改質装置

発明者： 武藤 正英 ,  正木 康史 ,  香川 英司
出願人/特許権者： 松下電工株式会社
代理人 (1件)： 西川 惠清 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-166859
公開番号（公開出願番号）：特開2001-342269
出願日： 2000年06月02日
公開日（公表日）： 2001年12月11日
要約：

【要約】【課題】 高い改質効果を得ることができるものとする。【解決手段】 表面改質すべき基板1を側面に保持するとともに高周波が印加される基板ホルダー2と、この基板ホルダー2の上記側面に対向する対向電極板3とをチャンバー10内に配する。高周波放電が基板ホルダー2とチャンバー10壁面との間ではなく、基板ホルダー2とこれに対向する対向電極板3との間で生じさせることでプラズマ発生領域を限定し、基板1付近でのプラズマ密度を高める。

請求項（抜粋）：

表面改質すべき基板を側面に保持するとともに高周波が印加される基板ホルダーと、この基板ホルダーの上記側面に対向する対向電極板とをチャンバー内に配していることを特徴とする樹脂基板の表面改質装置。

IPC (4件)：

C08J 7/00 302 ,  B01J 19/08 ,  C23C 14/02 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

C08J 7/00 302 ,  B01J 19/08 E ,  C23C 14/02 Z ,  H05H 1/46 M ,  H05H 1/46 L ,  H05H 1/46 C

Fターム (33件)：

4F073AA01 ,  4F073BB02 ,  4F073BB09 ,  4F073CA01 ,  4F073CA04 ,  4F073CA05 ,  4F073CA06 ,  4F073CA07 ,  4F073CA08 ,  4F073DA01 ,  4G075AA30 ,  4G075AA42 ,  4G075BA05 ,  4G075BC02 ,  4G075BD14 ,  4G075CA03 ,  4G075CA15 ,  4G075CA25 ,  4G075CA42 ,  4G075CA65 ,  4G075DA01 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB42 ,  4G075EC01 ,  4G075EC21 ,  4G075EE36 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15 ,  4G075FC20 ,  4K029AA11 ,  4K029CA05 ,  4K029FA05