特許
J-GLOBAL ID：200903013120241184
遮光性薄膜形成用組成物及びこれを用いて形成された遮光膜
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
成瀬 勝夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-083017
公開番号（公開出願番号）：特開平8-278629
出願日： 1995年04月07日
公開日（公表日）： 1996年10月22日
要約：
【要約】【目的】 高遮光率を有し、また、フォトリソグラフィー法によるファインパターンの形成が容易であって、しかも、絶縁性、耐熱性、密着性、室温保存安定性にも優れた遮光性薄膜形成用組成物及びその組成物を用いて形成した遮光膜並びにカラーフィルター用ブラックマトリックスを提供する。【構成】 (A)下記一般式(1)【化1】で表される化合物を主体とするエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物と、(B)光重合開始剤若しくは増感剤と、(C)黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる少なくとも1種以上と、(D)エポキシ基を有する化合物とを含む組成物であって、上記D成分が上記A成分100重量部に対して1重量部以下である遮光性薄膜形成用組成物である。また、この遮光性薄膜形成用組成物を用いて形成された遮光膜並びにカラーフィルター用ブラックマトリックスである。
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(1)【化1】(但し、式中、R1 及びR2 は水素原子、炭素数1〜5のアルキル基、ハロゲン原子のいずれかであり、Xは-CO-、-SO2 -、-C(CF3 )2 -、-Si(CH3 )2 -、-CH2 -、-C(CH3 )2 -、-O-、【化2】若しくは不存在を示し、nは0〜10の整数である)で表される化合物を主体とするエポキシ化合物と(メタ)アクリル酸との反応物を更に多塩基酸カルボン酸又はその無水物と反応させて得られた不飽和基含有化合物(A成分)と、(B)光重合開始剤若しくは増感剤(B成分)と、(C)黒色有機顔料、混色有機顔料及び遮光材から選ばれる少なくとも1種以上(C成分)と、(D)任意成分としてのエポキシ基を有する化合物(D成分)とを含む組成物であって、上記D成分が上記A成分100重量部に対して0又は1重量部以下であることを特徴とする遮光性薄膜形成用組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/027 515
, G03F 7/027 502
, C08F 2/44 MCQ
, C08F 2/50 MDJ
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/004 505
G03F 7/027 515
, G03F 7/027 502
, C08F 2/44 MCQ
, C08F 2/50 MDJ
, G02B 5/20 101
, G02F 1/1335 505
, G03F 7/004 505
