特許

J-GLOBAL ID：200903013126984235

金属含有汚染物除去用洗浄剤と汚染物洗浄法

発明者： ディヴィッド.アレン.ロバーツ ,  ジョン.クリストファー.イヴァンコヴィッツ ,  ディヴィッド.アーサー.ボーリング
出願人/特許権者： エアー.プロダクツ.アンド.ケミカルス.インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-293720
公開番号（公開出願番号）：特開平6-260463
出願日： 1992年10月07日
公開日（公表日）： 1994年09月16日
要約：

【要約】【目的】 洗浄剤との接触により形成される生成物と汚染物とが十分な揮発性を有せず、洗浄面からの事実上完全な除去ができないため乾燥洗浄剤と環境上有害な試薬を用いない金属含有汚染物の蒸気相除去法。【構成】 洗浄面を酢酸又は蟻酸から選ばれるカルボン酸からなる有効量の洗浄剤と、洗浄される基板面上の揮発性金属配位子錯体を形成させるだけの十分な温度で接触させることからなる。揮発性金属配位子錯体を基板面から昇華させ清浄で、ほぼ残留物のない基板面を提供する。【効果】 装置移送中のクリーンルーム環境に曝露する必要性がなく他の汚染物への曝露による再汚染も防止でき、さらに後続製造工程を妨害する恐れのある残留物を電子アセンブリ表面に事実上残さない。

請求項（抜粋）：

集積回路と半導体の組立てに用いられる種類の基板面からの金属含有汚染物除去用洗浄剤であって、前記洗浄剤と前記金属含有汚染物が反応して揮発性金属配位子錯体を形成できる蟻酸もしくは酢酸から選ばれる有効量のカルボン酸からなる前記洗浄剤。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  C11D 7/26 ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-215127
  
• 特開昭61-004232
  
• 特開昭63-274700