特許
J-GLOBAL ID：200903013140435708
光ディスク作製用マスタディスクの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-143472
公開番号（公開出願番号）：特開平11-120626
出願日： 1998年05月25日
公開日（公表日）： 1999年04月30日
要約：
【要約】【課題】 情報の記録及び再生特性が改良でき、情報の高密度記録が実現可能な光ディスク作製用マスタディスクの製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板上にSiO2皮膜を形成する段階300と、SiO2皮膜上に一次フォトレジスト層をコートする段階310と、一次フォトレジスト層を、相応するグルーブ形成リセス及びランド形成突出部のパターンに応じて露光させる段階320と、SiO2皮膜及び1次フォトレジスト層をエッチしする段階330と、SiO2皮膜上に2次フォトレジスト層をコートする段階340と、二次フォトレジスト層を、所定情報が記録されるピットパターンに応じて露光させる段階350と、二次フォトレジスト層をエッチしてグルーブ及びランドにピットを形成する段階360とを含む製造方法とした。
請求項（抜粋）：
基板上にSiO2皮膜を形成する段階と、前記SiO2皮膜上に1次フォトレジスト層をコートする段階と、前記1次フォトレジスト層を、グルーブ及びランドに各々相応するグルーブ形成リセス及びランド形成突出部のパターンに応じて露光させる段階と、前記SiO2皮膜及び前記1次フォトレジスト層をエッチし、前記SiO2皮膜に前記グルーブ形成リセス及びランド形成突出部を形成する段階と、前記SiO2皮膜上に2次フォトレジスト層をコートすることにより、グルーブ及びランドを形成する段階と、前記2次フォトレジスト層を、所定情報が記録されるピットパターンに応じて露光させる段階と、前記2次フォトレジスト層をエッチすることにより、前記グルーブ及びランドに前記ピットを形成する段階とを含むことを特徴とする光ディスク作製用マスタディスクの製造方法。
引用特許：
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