特許
J-GLOBAL ID：200903013148935513
ポリシロキサン塗布膜の製造法及び半導体装置の製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-234293
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074261
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 平坦性が優れた膜を形成することができるポリシロキサン塗布膜の製造法及びエッチバック工程を必要としない無機塗布ガラス膜または、有機基含有量が十分少ない有機塗布ガラスで、リフロー性を有する有機塗布ガラス膜と同等の平坦性を有する層間絶縁膜を形成することができる半導体装置の製造法を提供する。【解決手段】 ポリシロキサン塗布液を基板に塗布後、その塗布液に含まれる溶媒と同じ溶媒の雰囲気中で加熱しその後、加熱しながら雰囲気を徐々に不活性ガスに置換する工程を有するポリシロキサン塗布膜の製造法及びこの方法で層間絶縁膜を形成する工程を含む半導体装置の製造法。
請求項（抜粋）：
ポリシロキサン塗布液を基板に塗布後、その塗布液に含まれる溶媒と同じ溶媒の雰囲気中で加熱しその後、加熱しながら雰囲気を徐々に不活性ガスに置換する工程を有するポリシロキサン塗布膜の製造法。
FI (2件)：
H01L 21/316 G
, H01L 21/316 P
