特許

J-GLOBAL ID：200903013168658362

位置検出方法、位置検出装置、露光方法、及び露光装置

発明者： 吉田 幸司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-023437
公開番号（公開出願番号）：特開2001-217174
出願日： 2000年02月01日
公開日（公表日）： 2001年08月10日
要約：

【要約】【課題】 物体上に形成されたマークの位置を精度良くかつ迅速に検出する。【解決手段】 撮像装置ASが、マークMX,MYを互いに異なる複数のデフォーカス状態を含む撮像条件で撮像した後、処理装置20が、撮像されたマークの像とデフォーカス量との関係すなわちデーフォーカス量の変化に伴う撮像されたマーク像の変遷の態様を求める。そして、求められた撮像マーク像とデフォーカス量との関係からマークの位置すなわちフォーカス状態におけるマーク像を使用して得られるはずのマーク位置を検出する。この結果、フォーカス状態において撮像されたマーク像におけるラインパターンとスペースパターンとの段差が小さい場合であっても精度良くマークの位置を検出することができる。

請求項（抜粋）：

物体に形成されたマークの位置を検出する位置検出方法であって、前記マークを、互いに異なる複数のデフォーカス状態を含む撮像条件で撮像する第1工程と;前記撮像条件における撮像結果から、撮像された前記マークの像とデフォーカス量との関係を求め、該関係に基づいて前記マークの位置を検出する第2工程とを含む位置検出方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (5件)：

G01B 11/00 H ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 N ,  H01L 21/30 525 W

Fターム (39件)：

2F065AA03 ,  2F065AA14 ,  2F065BB03 ,  2F065BB28 ,  2F065CC20 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065FF42 ,  2F065FF44 ,  2F065FF55 ,  2F065GG01 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL00 ,  2F065LL12 ,  2F065LL46 ,  2F065LL59 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ38 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC16 ,  5F046ED02 ,  5F046FA03 ,  5F046FA10 ,  5F046FA17 ,  5F046FA20 ,  5F046FB14 ,  5F046FB20 ,  5F046FC04 ,  5F046FC05