特許
J-GLOBAL ID:200903013178438360

半導体慣性センサ及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須田 正義
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-319606
公開番号(公開出願番号):特開平10-163505
出願日: 1996年11月29日
公開日(公表日): 1998年06月19日
要約:
【要約】【課題】 ウェーハの貼り合わせやレーザ加工が不要で大量生産に適する、低コストの半導体慣性センサを得る。また寄生容量が低く、高感度で高精度であって寸法精度に優れた半導体慣性センサを得る。【解決手段】 半導体慣性センサ30は、ガラス基板10の上方に可動電極26が設けられ、この可動電極26を挟んで一対の固定電極27,28が設けられる。可動電極26及び一対の固定電極27,28がポリシリコンからなる。
請求項(抜粋):
ガラス基板(10)の上方に浮動するように設けられた可動電極(26)と、前記ガラス基板(10)上に前記可動電極(26)を挟んで設けられた一対の固定電極(27,28)とを備えた半導体慣性センサ(30,60)において、前記可動電極(26)及び一対の固定電極(27,28)がポリシリコンからなることを特徴とする半導体慣性センサ。
IPC (3件):
H01L 29/84 ,  G01C 19/56 ,  G01P 9/04
FI (3件):
H01L 29/84 Z ,  G01C 19/56 ,  G01P 9/04

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