特許
J-GLOBAL ID:200903013197163950

回折格子パターンとその作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-146809
公開番号(公開出願番号):特開2001-330717
出願日: 2000年05月18日
公開日(公表日): 2001年11月30日
要約:
【要約】【課題】回折格子からなる微小なセルをマトリクス状に複数個配置し、それらの集まりによって表現されるパターンにおいて、表現されるべきパターン(画像)を構成する回折光とは異なる、強いピークを持った冗長な回折光の影響を低減し、パターン(画像)の視認度を向上させ、元のデザインを忠実に再現する。【解決手段】各セルを、各々の配置領域内でセルの間隔に起因する強いピークを持った回折光が発生しにくくなるよう、不規則な間隔で配置する。
請求項(抜粋):
回折格子からなる微小なセルが、基板表面にマトリクス状に複数配置されることにより構成され、回折格子の空間周波数,回折格子の方向,前記セルの配置される領域の少なくとも何れかが変化してなるパターンにおいて、面積の大小により、セルから出射する回折光の光量を制御した各セルが、それぞれの周辺のセルと、不規則な間隔で離間して配置されていることを特徴とする回折格子パターン。
IPC (3件):
G02B 5/18 ,  B42D 15/10 501 ,  B42D 15/10
FI (3件):
G02B 5/18 ,  B42D 15/10 501 P ,  B42D 15/10 501 G
Fターム (8件):
2C005HA01 ,  2C005JB09 ,  2H049AA06 ,  2H049AA12 ,  2H049AA31 ,  2H049AA34 ,  2H049AA60 ,  2H049AA66
引用特許:
審査官引用 (4件)
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