イオン注入装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：小川信一 , 野口賢照 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-081330
公開番号（公開出願番号）：特開2004-288549
出願日： 2003年03月24日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】イオン発生源及びビームラインの構成を大電流に適した装置を得ること。【解決手段】イオン発生源2と質量分離部4とイオン処理ステーション6とビームライン9を備え、前記イオン発生源2は、アークチャンバー本体11、一部に細長い開放部12aを持ち、前記アークチャンバー本体11の開口部を閉止するソースアパーチャー12とからなるアークチャンバー11Aと、前記アークチャンバー本体11の長手方向の一方の面にフィラメン11hを、また、対向面にリペラプレート11kを配置し、アークチャンバー本体11にイオン発生物質を含むガスを供給して、このガスを電離させてイオンを生成してビームラインに引き出すように構成した装置において、前記アークチャンバー11Aの少なくとも内面の一部をタングステンで形成した。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

イオンを発生させてビームラインに送出するイオン発生源と、このイオン発生源から送出されてくるイオンを質量分離マグネットで選択して所定の質量のイオンをイオン処理ステーションに導くビームラインを備え、前記イオン発生源は、一面に開口部を持つアークチャンバー本体と、一部に細長い開口孔を持ち、前記開口部を閉止するソースアパーチャーとからなるアークチャンバーと、前記アークチャンバー本体の長手方向の一方の面にフィラメントを、また、対向面にリペラプレートをそれぞれ配置しており、更に、前記アークチャンバー本体にイオン発生物質を含むガスを供給して、このガスを電離させてイオンを生成し、このイオンをビームラインに引き出すように構成されており、前記アークチャンバーの少なくとも内面の一部をタングステンで形成したことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (3件)：

H01J27/04 , H01J37/08 , H01J37/317

FI (3件)：

H01J27/04 , H01J37/08 , H01J37/317 Z

Fターム (5件)：

5C030DD03 , 5C030DE01 , 5C030DE04 , 5C030DG09 , 5C034CC01

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平3-159049
小型の高電流幅広ビームのイオン注入装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-066475 出願人：ダイアモンド・セミコンダクタ・グループ・インコーポレイテッド
特開平3-159049

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