特許
J-GLOBAL ID:200903013209325217

廃水処理方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西山 恵三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-154797
公開番号(公開出願番号):特開2002-346577
出願日: 2001年05月24日
公開日(公表日): 2002年12月03日
要約:
【要約】【課題】 従来の廃水処理では、処理対象成分ごとに処理工程が必要であったため、廃水処理装置の小型化には限界があったが、本発明によれば難分解性有機成分と微粒子成分を同時に処理可能な廃水処理方法及び装置を提供するものである。【解決手段】 光触媒粒子が分散した状態で含有されているセラミック製濾過膜を処理廃水に浸漬させ、膜を通して廃水を吸引濾過すると共に、膜表面に紫外線を照射し表面で酸化還元反応を発生させる。また、膜下方より酸化気体を送り込み、膜表面に付着したごみを除去すると共に、廃水中の成分を酸化分解させる。膜による濾過と光触媒による分解硬化及び酸化気体の酸化分解効果により、微粒子成分と廃水中の有機成分が除去できる廃水処理方法及びその装置。
請求項(抜粋):
廃水処理工程において、光触媒粒子が分散した状態で混入されているセラミック製濾過膜、および濾過膜に紫外線を照射する紫外線ランプが廃水処理槽内に設置されている構造を有する排水処理装置を用いて、吸引濾過および光触媒による分解反応により廃水処理を実施することを特徴とした廃水処理方法及びその装置。
IPC (5件):
C02F 1/72 101 ,  B01D 39/20 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78
FI (5件):
C02F 1/72 101 ,  B01D 39/20 D ,  C02F 1/00 L ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/78
Fターム (19件):
4D019AA03 ,  4D019BA05 ,  4D019BB01 ,  4D019BC07 ,  4D019CA05 ,  4D037AA11 ,  4D037AB01 ,  4D037BA18 ,  4D037CA02 ,  4D037CA12 ,  4D050AA13 ,  4D050AA15 ,  4D050AB11 ,  4D050BB01 ,  4D050BB02 ,  4D050BC06 ,  4D050BC09 ,  4D050BD06 ,  4D050CA15

前のページに戻る