特許
J-GLOBAL ID:200903013232490187

荷電粒子線装置及び該装置の使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-258729
公開番号(公開出願番号):特開平10-106471
出願日: 1996年09月30日
公開日(公表日): 1998年04月24日
要約:
【要約】【課題】 投影系による結像特性を容易に所望の状態に正確に設定する。【解決手段】 レチクル3のパターンが第1投影レンズ7及び第2投影レンズ8よりなる投影系を介してウエハ10上に転写される。第1投影レンズ7と第2投影レンズ8との間に配置された3個の補正レンズ9A〜9Cを介してその投影系の焦点量、回転量、倍率量を補正する。この際に、補正レンズ9A〜9Cを単位アンペアターン数だけ駆動したときのそれら3個の結像特性の補正量と、3個の結像特性の補正量の目標値とを係数とする3元1次方程式を解いて、3個の補正レンズ9A〜9Cの駆動量を決定する。
請求項(抜粋):
荷電粒子線を投影系を介して試料上に導く荷電粒子線装置において、それぞれ互いに独立に複数個の結像特性を補正する複数個の補正レンズを設け、該複数個の補正レンズを介して全体として前記投影系の前記複数個の結像特性を補正することを特徴とする荷電粒子線装置。
IPC (5件):
H01J 37/21 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/305 ,  H01L 21/027
FI (6件):
H01J 37/21 Z ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/147 C ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 V
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-207130
  • 特開昭62-012043
  • 特開昭63-207130
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