基体処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木村高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-191179
公開番号（公開出願番号）：特開平6-037054
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】電極面の広範囲にわたり均一なプラズマを形成し、プラズマを閉じこめ、ウエハの全表面にわたり高密度のプラズマを維持できる基体処理装置を提供する。【構成】真空容器1内に第1の電極2とそれに対向した第2の電極7を備え、また真空容器内に所定ガスを導入するガス供給手段4と、真空容器内を減圧下に維持する真空排気手段6と、前記第1及び第2の電極間に電界を発生させる電界発生手段5と、さらに真空容器内に磁界を発生させる磁界発生手段13とを具備している。磁界発生手段は外周で環状をなし、着磁方向が環の半周で1回転可能なように配列され、磁界の強度がNS方向の周縁部近傍で中央部と同等、またはより強くなるように構成された複数の磁石13a,13b,23a,23bを含み、第1と第2の電極間にプラズマを封じ込めるように構成されている。

請求項（抜粋）：

第1の電極と、前記第1の電極に対向して配置された被処理基板が設置される第2の電極とを備えた真空容器と、該真空容器内に所定のガスを導入するガス供給手段と、該真空容器内を減圧下に維持する真空排気手段と、前記第1および第2の電極との間に電界を発生せしめる電界発生手段と、該真空容器内に磁界を発生せしめる磁界発生手段とを具備し、前記磁界発生手段が、外周で環状をなすとともに、着磁方向が前記環の半周で1回転可能なように配列された複数の磁石要素を含み、前記磁界の強度がNS方向の周縁部近傍で中央部と同等もしくはより強くなるように構成されたことを特徴とする基体処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/302 , C23C 16/50 , C23F 4/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-224227
特開平4-000389
特開昭61-187336

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