特許

J-GLOBAL ID：200903013238652286

表面分析機器による粒子分析方法

発明者： 伊藤 愼平
出願人/特許権者： 日本電子株式会社
代理人 (1件)： 最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144322
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338067
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】 分析測定位置が粒子の存在しない位置に設定されることがないようにした表面分析機器による粒子分析方法を提供する。【解決手段】 試料に対して電子ビームを相対的に走査しながら照射し、試料より発生する反射電子又は2次電子の強度に基づいて反射電子像又は2次電子像を生成し、反射電子像又は2次電子像に基づいて測定粒子を検出して該粒子の重心位置を判定し、該重心位置が粒子上に存在する場合は、該重心位置を測定位置として分析を行い、前記重心位置が粒子上に存在しない場合は、重心位置を中心として4方向又は8方向の粒子領域の最大長さの中点に測定位置を移して分析を行う。

請求項（抜粋）：

表面分析機器を用いて試料表面の粒子の分析を行う粒子分析方法において、試料に対して電子ビームを相対的に走査しながら照射し、試料より発生する反射電子又は2次電子の強度に基づいて反射電子像又は2次電子像を生成するステップと、生成された反射電子像又は2次電子像に基づいて測定粒子を検出し、該測定粒子の重心位置を判定するステップと、判定された測定粒子の重心位置に粒子が存在する場合は該重心位置を測定位置として電子ビーム又は特性X線の照射による分析を実行し、判定された測定粒子の重心位置に粒子が存在しない場合は粒子が存在する位置に測定位置を移して分析を実行するステップとを備えていることを特徴とする表面分析機器による粒子分析方法。

IPC (4件)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/00 ,  G01N 23/20 ,  H01J 37/29

FI (5件)：

G01N 23/225 ,  G01B 15/00 B ,  G01B 15/00 A ,  G01N 23/20 ,  H01J 37/29

Fターム (31件)：

2F067AA12 ,  2F067AA45 ,  2F067HH04 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ03 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK02 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067LL16 ,  2F067RR12 ,  2F067SS02 ,  2G001AA01 ,  2G001AA03 ,  2G001AA10 ,  2G001BA04 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001BA30 ,  2G001EA03 ,  2G001FA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA05 ,  2G001GA06 ,  2G001HA13 ,  2G001JA11 ,  2G001JA20 ,  2G001KA01 ,  2G001MA04 ,  2G001PA11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-167460
  
• 特開昭60-254544