特許

J-GLOBAL ID：200903013238824621

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤森 亨 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-115253
公開番号（公開出願番号）：特開平11-305443
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：

【要約】【課題】 パターンプロファイルの形状が優れ、特にパターンの側壁形状のスムーズ性に優れ、ドライエッチング耐性が高く、高感度で高解像力を有し、且つ定在波の発生のない、優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (a)特定の構造の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(I)で示される基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中、R1 、R2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、R3 は総炭素数11〜20の置換基を有してもよい鎖状アルキル基、総炭素数11〜20の置換基を有してもよい環状アルキル基、総炭素数11〜30の置換基を有してもよいアリール基、総炭素数12〜30の置換基を有してもよいアラルキル基を表す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R