特許

J-GLOBAL ID：200903013242232704

回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物

発明者： 千葉 秀貴 ,  大野 悦子 ,  嶋田 篤文 ,  遠藤 昌之
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-066115
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256684
出願日： 1993年03月02日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：

【要約】【構成】(A)(a)不飽和カルボン酸と、(b)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と、(c)他のラジカル重合性化合物との、共重合体(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および、(C)光重合開始剤を含有することを特徴とする回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物。【効果】 電気めっき用、無電解めっき用、層間絶縁膜用、回路保護膜用などに好適な回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物を提供する。

請求項（抜粋）：

(A)(a)不飽和カルボン酸と、(b)エポキシ基を有するラジカル重合性化合物と、(c)他のラジカル重合性化合物との、共重合体(B)少なくとも1個のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物および、(C)光重合開始剤、を含有することを特徴とする回路基板形成用アルカリ現像型液状フォトレジスト組成物。

IPC (7件)：

C09D 4/00 PDU ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038 503 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28 ,  H05K 3/46

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平3-172301
  
• 特開平1-203424
  
• 特開平3-100185