特許

J-GLOBAL ID：200903013249388432

レジスト洗浄除去用溶剤及びこの溶剤を用いた電子部品製造用基材の製造方法

発明者： 大野 勇人 ,  河野 伸一 ,  高橋 浩一 ,  徳竹 信生 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-157247
公開番号（公開出願番号）：特開平7-146562
出願日： 1993年06月28日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】【構成】 (A)プロピレングリコールモノアルキルエーテル及び(B)一般式R1O(CH2)nCOOR2(R1及びR2は低級アルキル基、nは2〜4)で表わされる化合物を含有するレジスト洗浄除去用溶剤、及びスピンナーによりレジスト形成用塗布物を基材に塗布し、次いで基材の周辺部、縁辺部及び裏面部に付着した不要のレジスト形成用塗布物を、前記溶剤であらかじめ除去する電子部品製造用基材の製造方法。【効果】 レジストの溶解性に優れ、毒性が少なく、しかも溶解性が経時的に安定して残さや析出物が生じることのないレジスト洗浄除去用溶剤であり、これを用いることにより高品質の電子部品製造用基材が効率よく得られる。

請求項（抜粋）：

(A)プロピレングリコールモノアルキルエーテル及び(B)一般式R1O(CH2)nCOOR2(式中のR1及びR2はそれぞれ低級アルキル基であり、それらはたがいに同一であってもよいし異なっていてもよく、nは2〜4の整数である)で表わされる化合物を含有することを特徴とするレジスト洗浄除去用溶剤。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/304 341