特許
J-GLOBAL ID:200903013255068792

マスク用の防塵カバー

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-014932
公開番号(公開出願番号):特開平6-230558
出願日: 1993年02月01日
公開日(公表日): 1994年08月19日
要約:
【要約】【構成】 透明薄膜体の少なくとも一方の面に、低屈折率層からなる1層の反射防止層または高屈折率層の上に低屈折率層を積層した2層の反射防止層が形成されたマスク用防塵カバーにおいて、反射防止層を形成する低屈折率層が下記式(1)で表されるポリマーであるマスク用防塵カバー(ペリクル)。【化1】(ここで、Rfoはパーフルオロエーテルユニットを表す。)【効果】 本発明のペリクルは、透明性が高く、かつ溶解性、接着性に優れる低屈折率の含フッ素ポリマーを反射防止層の低屈折率成分に使用した、光線透過率が高く、さらには耐エアブロー性、操作性にも優れるペリクルである。
請求項(抜粋):
透明薄膜体の少なくとも一方の面に、低屈折率層からなる1層の反射防止層又は高屈折率層の上に低屈折率層を積層した2層の反射防止層が形成されたマスク用防塵カバーにおいて、上記反射防止層を形成する低屈折率層が、側鎖にカルボニル含有基を有するアモルファスパーフルオロポリマーからなることを特徴とするマスク用防塵カバー。
IPC (4件):
G03F 1/14 ,  B32B 27/30 ,  C08G 73/06 NTM ,  H01L 21/027
引用特許:
審査官引用 (1件)

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