特許

J-GLOBAL ID：200903013258014332

光増幅ガラス薄膜の製造方法

発明者： 吉本 護 ,  田部 勢津久 ,  近藤 裕己 ,  伊藤 節郎
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-263727
公開番号（公開出願番号）：特開2002-068779
出願日： 2000年08月31日
公開日（公表日）： 2002年03月08日
要約：

【要約】【課題】透明性の高いエルビウムとビスマスを含む光増幅ガラス薄膜を提供する。【解決手段】レーザーアブレーション法により、基板上にエルビウムとビスマスを含む酸化物ガラス薄膜を形成するに当たり、真空チャンバ中の酸素分圧を0.1〜40Pa、基板温度を室温から400°Cまで、ターゲットへ照射するレーザーのエネルギ密度を0.5〜5J/cm2に制御する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ中においてターゲットにレーザー光を照射し、基板上に薄膜を形成するレーザーアブレーション法により基板上にエルビウムとビスマスを含む酸化物ガラス薄膜を形成するに当たり、真空チャンバ中の酸素分圧を0.1〜40Pa、基板温度を室温から400°Cまで、ターゲットへ照射するレーザー光のエネルギ密度を0.5〜5J/cm2に制御することを特徴とする光増幅ガラス薄膜の製造方法。

IPC (5件)：

C03C 17/02 ,  C03B 19/14 ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/28 ,  H01S 3/06

FI (5件)：

C03C 17/02 A ,  C03B 19/14 A ,  C23C 14/10 ,  C23C 14/28 ,  H01S 3/06 B

Fターム (13件)：

4G014AH11 ,  4G059AA08 ,  4G059AB05 ,  4G059AC30 ,  4G059CA01 ,  4G059CB02 ,  4K029BA02 ,  4K029BA43 ,  4K029CA01 ,  4K029DB20 ,  4K029EA03 ,  5F072AB09 ,  5F072YY17