特許
J-GLOBAL ID:200903013267840865

高周波焼入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大西 孝治 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-062526
公開番号(公開出願番号):特開2000-256733
出願日: 1999年03月10日
公開日(公表日): 2000年09月19日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】非平面で且つ長手方向に広がりを持って焼入対象領域が存在する薄型長尺状のワークを焼入するための高周波焼入装置。【解決手段】領域950に対向する位置に設けられ且つ領域950の長手方向の略全範囲において略沿った形状となるように形成される加熱導体部110、111を有する高周波加熱コイル体100と、領域951に対向して設けられ焼入用冷却液を噴射する冷却ジャケットとを具備している、非平面で且つ長手方向に広がりを持って焼入対象領域950、951が存在する薄型長尺状のワークWを焼入するための高周波焼入装置。
請求項(抜粋):
非平面で且つ長手方向に広がりを持って焼入対象領域が存在する薄型長尺状のワークを焼入するための高周波焼入装置であって、前記領域に対向する位置に設けられ且つ前記領域の長手方向の略全範囲において略沿った形状となるように形成される加熱導体部を有する高周波加熱コイル体と、前記領域に対向して設けられ焼入用冷却液を噴射する冷却ジャケットとを具備していることを特徴とする高周波焼入装置。
IPC (2件):
C21D 1/10 ,  C21D 9/00
FI (3件):
C21D 1/10 Z ,  C21D 1/10 G ,  C21D 9/00 A
Fターム (9件):
4K042AA25 ,  4K042BA01 ,  4K042BA10 ,  4K042BA13 ,  4K042DA01 ,  4K042DB01 ,  4K042DD04 ,  4K042DE02 ,  4K042EA01
引用特許:
審査官引用 (2件)

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