特許

J-GLOBAL ID：200903013291273351

高純度酸化チタンおよびその製造方法

発明者： 小古井 久雄 ,  田中 淳
出願人/特許権者： 昭和電工株式会社
代理人 (1件)： 柿沼 伸司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-078850
公開番号（公開出願番号）：特開2003-277057
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：

【要約】【課題】分散性の良い二酸化チタンが得られる火炎溶融法において、産業的に利用分野の広い、特に光触媒粉体やセラミックス成形体原料として好適な5μmから200μmの範囲の平均径を持つ、高純度で分散性の良い二酸化チタン、及びその製造方法を提供する。【解決の手段】気相法で得た分散性の良い二酸化チタンを原料として、火炎溶融法で、短い高温滞留時間で球状化した二酸化チタンを得る。

請求項（抜粋）：

二酸化チタンにおいて、レーザー式粒度分析法によって測定される平均粒径が5〜200μmの範囲内であり、TiO2としての純度が99.5質量%以上であり、Fe、Ni、Cr、Al及びZrがそれぞれ20質量ppm以下、Siが40質量ppm以下、Clが0.05質量%以下、及びSが50質量ppm以下であることを特徴とする二酸化チタン。

IPC (11件)：

C01G 23/07 ,  A61K 7/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 35/08 ,  C08J 3/22 CER ,  C08J 5/00 CEZ ,  C08K 3/22 ,  C08L101/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 17/00 ,  C09D201/00

FI (11件)：

C01G 23/07 ,  A61K 7/00 B ,  B01J 35/02 J ,  B01J 35/08 Z ,  C08J 3/22 CER ,  C08J 5/00 CEZ ,  C08K 3/22 ,  C08L101/00 ,  C09D 7/12 ,  C09D 17/00 ,  C09D201/00

Fターム (123件)：

4C083AB241 ,  4C083BB23 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC19 ,  4C083EE17 ,  4F070AA02 ,  4F070AA03 ,  4F070AA13 ,  4F070AA15 ,  4F070AA18 ,  4F070AA22 ,  4F070AA23 ,  4F070AA26 ,  4F070AA28 ,  4F070AA32 ,  4F070AA42 ,  4F070AA44 ,  4F070AA45 ,  4F070AA46 ,  4F070AA47 ,  4F070AA49 ,  4F070AA50 ,  4F070AA52 ,  4F070AA53 ,  4F070AA54 ,  4F070AA60 ,  4F070AC15 ,  4F070FB03 ,  4F071AA09 ,  4F071AA10 ,  4F071AA15 ,  4F071AA20 ,  4F071AA22 ,  4F071AA24 ,  4F071AA25 ,  4F071AA26 ,  4F071AA28 ,  4F071AA29 ,  4F071AA30 ,  4F071AA33 ,  4F071AA40 ,  4F071AA41 ,  4F071AA42 ,  4F071AA43 ,  4F071AA46 ,  4F071AA47 ,  4F071AA49 ,  4F071AA50 ,  4F071AA53 ,  4F071AA54 ,  4F071AA56 ,  4F071AA68 ,  4F071AA77 ,  4F071AB18 ,  4F071AD02 ,  4F071AE17 ,  4F071AH19 ,  4F071BC01 ,  4F071BC07 ,  4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC02 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069DA05 ,  4G069EA04X ,  4G069EA04Y ,  4G069FA01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB23 ,  4J002AB011 ,  4J002AB041 ,  4J002BB021 ,  4J002BB111 ,  4J002BC021 ,  4J002BD031 ,  4J002BD101 ,  4J002BD121 ,  4J002BE021 ,  4J002BE061 ,  4J002BF021 ,  4J002BG041 ,  4J002BN151 ,  4J002CC031 ,  4J002CC161 ,  4J002CC181 ,  4J002CD001 ,  4J002CF011 ,  4J002CF061 ,  4J002CF211 ,  4J002CG001 ,  4J002CH021 ,  4J002CK021 ,  4J002CL001 ,  4J002CP031 ,  4J002DE136 ,  4J002FD016 ,  4J002GH00 ,  4J002GT00 ,  4J037AA22 ,  4J037CC01 ,  4J037CC11 ,  4J037CC21 ,  4J037DD05 ,  4J037DD19 ,  4J037EE28 ,  4J038AA011 ,  4J038EA011 ,  4J038HA216 ,  4J038KA04 ,  4J038KA08 ,  4J038KA20 ,  4J038MA07 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10 ,  4J038NA25 ,  4J038NA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光触媒活性酸化チタン粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-359604   出願人：北海道, 株式会社タニメック
• 熱分解により製造された二酸化チタンをベースとする顆粒及びその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-186693   出願人：デグサ-ヒュルスアクチェンゲゼルシャフト