特許
J-GLOBAL ID：200903013295291559
基板処理中の窒化ケイ素の選択エッチングのための装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
相田 伸二
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-547553
公開番号（公開出願番号）：特表2007-517413
出願日： 2004年12月30日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
酸化ケイ素のエッチング速度を安定させつつ高い選択性を提供する、酸化ケイ素に対する窒化ケイ素の選択エッチング装置(図5)及び方法。本発明は、プロセスチャンバ(10)、注入ライン(20、21、22)、供給ライン(30、31、32)、再循環ライン(40)、プロセス制御器(200)、濃度センサー(50)、粒子計数器(55)、排出ライン(90)、を含む。本発明は、少なくともひとつの基板の処理中に、使用されるエッチング液の構成要素の濃度比を動的制御し、および/または、エッチング液内の粒子数を動的制御する。結果として、エッチング液の液寿命は延び、エッチングプロセスパラメータは、よりしっかりと制御される。
請求項（抜粋）：
少なくとも1つの基板から窒化ケイ素をエッチングする方法であって、
プロセスチャンバおよび該プロセスチャンバに液体が流れるように連結された再循環ラインを有する閉ループ循環装置を設け、
該閉ループ循環装置へ所定量の硫酸、リン酸、および水を注入して、所定の濃度比、および所定量の混合液を形成し、
前記混合液は、プロセスチャンバを満たし、前記再循環ラインへオーバーフローさせ、
少なくとも一つの基板を前記プロセスチャンバ内の前記混合液に浸漬させ、
前記閉ループ循環装置を介して混合液を循環させ、
濃度センサーを用いて前記混合液の濃度比を連続的に測定し、
測定された濃度比と所定の濃度値を比較して、測定された濃度値が、所定の濃度比の所定範囲内にあるかどうかを判定し、
前記測定された濃度比が前記所定の濃度比の範囲内にないと判断された場合、前記閉ループ循環装置から前記混合液を排出する一方で、実質的に等容積の硫酸、リン酸、および/または水を前記閉ループ循環装置に自動的に供給し、前記少なくとも1つの基板の処理中に、所定の範囲内に前記混合液の濃度比を戻す、
ことを特徴とする、エッチング方法。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/304
H01L21/306 D
, H01L21/304 642A
, H01L21/304 647Z
, H01L21/304 648K
, H01L21/304 648G
5F043AA35
, 5F043BB23
, 5F043DD07
, 5F043DD19
, 5F043EE01
, 5F043EE12
, 5F043EE22
, 5F043EE23
, 5F043EE24
, 5F043EE25
, 5F043EE27
, 5F043EE31
, 5F043EE32
, 5F043EE33
, 5F043EE40
