特許
J-GLOBAL ID：200903013310343536

ポリウレタン発泡体の製造方法及び研磨シート

発明者：
瀬柳 博

瀬柳 博 について

, 
井上 薫

井上 薫 について

, 
今井 俊男

今井 俊男 について


出願人/特許権者：
東洋ゴム工業株式会社

東洋ゴム工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-356009
公開番号（公開出願番号）：特開2000-178374
出願日： 1998年12月15日
公開日（公表日）： 2000年06月27日
要約：
【要約】【課題】発泡剤や微小中空発泡体等の異種物質を使用することなく均一な微細気泡を有する微細気泡ポリウレタン発泡体の製造方法を提供すること。【解決手段】 本発明は、イソシアネート基含有化合物を含む第1成分と活性水素基含有化合物を含む第2成分を混合させて微細気泡ポリウレタン発泡体を製造する際に、前記第1成分もしくは前記第2成分の少なくとも一方にシリコン系ノニオン界面活性剤を添加し、界面活性剤を添加した成分を非反応性気体と攪拌し、前記非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とし、前記気泡分散液に残りの成分を混合して硬化させるか、又は前記第1成分もしくは前記第2成分の少なくとも一方に界面活性剤を添加し、前記第1成分、第2成分を非反応性気体と混合、攪拌し、前記非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とし、前記気泡分散液を硬化させる。
請求項（抜粋）：
イソシアネート基含有化合物を含む第1成分と活性水素基含有化合物を含む第2成分を混合させて微細気泡ポリウレタン発泡体を製造する方法であって、前記第1成分もしくは前記第2成分の少なくとも一方に水酸基を有しないシリコン系ノニオン界面活性剤を添加し、前記界面活性剤を添加した成分を非反応性気体と攪拌して前記非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とし、前記気泡分散液に残りの成分を混合して硬化させることを特徴とする微細気泡ポリウレタン発泡体の製造方法。
IPC (6件)：
C08J 9/12 CFF ,  B24D 11/00 ,  C08G 18/00 ,  C08J 5/14 CFF ,  C08K 13/04 ,  C08G101:00
FI (5件)：
C08J 9/12 CFF ,  B24D 11/00 Q ,  C08G 18/00 G ,  C08J 5/14 CFF ,  C08K 13/04
Fターム (96件)：
3C063AA06 ,  3C063AB07 ,  3C063BA02 ,  3C063BA24 ,  3C063BE01 ,  3C063BE06 ,  3C063BE12 ,  4F071AA53 ,  4F071AA82 ,  4F071AB17 ,  4F071AB32 ,  4F071AC12 ,  4F071AC13 ,  4F071AC16 ,  4F071AE01 ,  4F071AE02 ,  4F071AE03 ,  4F071AE10 ,  4F071AE13 ,  4F071AG28 ,  4F071DA08 ,  4F071DA20 ,  4F074AA78 ,  4F074AD17 ,  4F074BA32 ,  4F074BA33 ,  4F074BC05 ,  4F074CB52 ,  4F074CC06Y ,  4F074CC22Y ,  4F074DA03 ,  4F074DA56 ,  4J002CK031 ,  4J002CK041 ,  4J002CK051 ,  4J002EX006 ,  4J002FD316 ,  4J002GT00 ,  4J034DA01 ,  4J034DA05 ,  4J034DB01 ,  4J034DB03 ,  4J034DF01 ,  4J034DF02 ,  4J034DF11 ,  4J034DF12 ,  4J034DF14 ,  4J034DF15 ,  4J034DF16 ,  4J034DF19 ,  4J034DF20 ,  4J034DF21 ,  4J034DF22 ,  4J034DG01 ,  4J034DG03 ,  4J034DG04 ,  4J034DG05 ,  4J034DG06 ,  4J034DG09 ,  4J034DG14 ,  4J034DG23 ,  4J034DJ08 ,  4J034DK02 ,  4J034DP06 ,  4J034DP13 ,  4J034DP18 ,  4J034DP19 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HA11 ,  4J034HA13 ,  4J034HC01 ,  4J034HC02 ,  4J034HC03 ,  4J034HC11 ,  4J034HC12 ,  4J034HC15 ,  4J034HC16 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC54 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC66 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034LA24 ,  4J034MA17 ,  4J034NA08 ,  4J034NA09 ,  4J034PA02 ,  4J034QC01 ,  4J034RA19
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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